8月30日（木）・8月31日（金）の2日間にわたって東京ビッグサイトにて開催される「イノベーション・ジャパン2018」へ、理学部化学科山口和夫教授の研究成果を出展いたします。

「イノベーション・ジャパン」は、国内大学の最先端技術シーズと産業界とのニーズをつなげる国内最大級の産学マッチングイベントです。来場者数は2日間で2万人を超え、日本全国から500を超える大学、ベンチャー・中小企業等が多数出展する大規模な見本市です。

ぜひ、本学展示ブースへお立ち寄りください。多くの皆さまのお越しをお待ちしております。

【展示名】光応答性ホスホン酸単分子膜を用いた金属ナノ粒子インクの選択的塗布技術の開発

【研究概要】
新たに開発した光応答性ホスホン酸誘導体を利用した金属ナノ粒子選択的塗布技術は、大気下での露光（365nm)で光分解でき、従来用いられていたフッ素系の材料を利用しなくても鮮明なパターニングができる技術です。プリンタブルエレクトロニクスへ向けた導電金属ナノ粒子インクのパターニング、表面改質剤としての利用、選択的官能基の導入法としての利用など、様々な用途へ応用可能です。

出展ゾーン：大学等シーズ展示ゾーン
展示番号：Ｎ-11 ナノテクノロジー